SEM/EDS采用电子源入射样品到表面，激发出二次电子（用于形貌观察）、背散射电子（不同的衬度像反映出不同的原子序数）以及特征X射线（用于成分分析）。

SEM对样品表面5nm~10nm的形貌十分敏感，对表面约10nm到一点几um深度的衬度信息也非常敏感，可进行微区的成分定性分析。

SEM可用于薄膜（极易受电子束损伤）的低压观察、纳米材料的高倍低压观察、晶粒结构分析、成分像分析、微纳米尺寸测量、断口分析、生物试样及液体试样的观察等。

1. SEM的结构和工作原理、 电子信号成像原理

二次电子、背散射电子的产生、分辨力及成像原理

2. SEM的主要应用

低压、纳米材料观察、成分像观察、微纳米尺寸测量、断口分析、生物、液体试样观察等

3. X射线的产生、探测限、假峰

X射线的产生、激发区域，X射线的探测限与假峰。

4. EDS的分析方法

点、线、面分析，颗粒物的自动分析。

5. 实用案例

变色、腐蚀、起泡、元素深度分布分析、界面缺陷分析等。